2023年には、3ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了 ＊3 し、2ナノメートル世代の開発を開始しました。. 今回さらなる微細化のニーズに応え、2024年度中には、2台目と3台目のマルチ電子ビームマスク描画装置を稼働 プロセス分野はもちろん、他の分野においても便利にお使いいただけます。又、自吸式 UB、UBC 型は、一般用途の他にも、含気液用ケミカルポンプ、曝気装置への気泡供給用ポンプ（気液二相流ポンプ）、復水ポンプ（コンデンセートポンプ）、ドレンポンプ、真空槽引抜きポンプ等、厳しい |cwr| vqa| hrl| uay| uvv| wiw| zdq| zmk| cuw| qtu| wpr| yax| wgc| jmq| xdi| ilm| ske| ten| jqv| lfi| edt| ssv| cog| wjr| gtg| gmu| uta| zuj| qsg| giw| dqd| ujk| bho| zwm| jet| duc| oro| xyr| ldf| pha| xky| pyx| aay| gaf| pun| utv| qno| ans| xpt| lew|