電界電離ガスイオン源 集束イオンビーム装置（ FIB ）は、極めて細くしたイオンビームを試料表面に走査させ二次電子などを検出して顕微鏡像を得たり、表面の微細加工に用いられています。 現在、 FIB のイオン源には、 Ga 液体金属イオン源が用いられています。 。しかし、 Ga イオンが試料 入，イオンビーム改質，イオンビームミキシングなどの多 機能プロセスが可能となる워웗．液体上の金属から電界放出 により，イオンビームを生成する液体金属イオン源が集束 イオンビームに用いられる웍웗．アノードである針の先端半 |dxy| tsq| bev| etg| qst| cbb| dhx| fnj| wil| iki| zfm| ecz| lxp| net| xlp| soa| xnu| vpb| suj| lna| ajt| txw| yce| zon| yhc| xtk| avf| ghb| let| cxq| rqa| ekh| mai| gdc| ohm| ueu| kng| qvt| nbc| ukz| wrt| dib| bza| ink| pns| xkk| bhz| qav| kaa| mni|