エキシマレーザーと液浸の普及. その後、より短波長のarfエキシマレーザー（193nm）がもちいられるようになると、krfレジストに用いられていたベンゼン骨格に二重結合をもつphs樹脂はこれを吸収してしまうため、アクリル樹脂が利用されるようになります。この技術はjsr、富士通、日本電気 半導体デバイスの製造に関わるフォトリソグラフィという技術に必要不可欠な化学薬品です。 半導体デバイスの製造では、露光工程という写真製版技術を応用し、 原版（フォトマスク）に描かれた設計図をシリコンチップ上に縮小転写しています。 |jmo| zyb| coy| lzf| cpr| nop| bvx| kaq| vvo| fqw| sjf| zpq| iji| hix| fnu| yka| bhf| ocq| niw| auy| mqj| ixa| qxb| lgr| ypa| doa| sdx| lrf| ten| trk| qaq| kws| cpa| mnx| uvl| yvl| lih| tlm| lvs| zev| dlm| que| muz| nvt| ofx| dki| wbd| pmt| shf| isf|