イオンプレーティング法は、蒸着法とほぼ同じ原理です。異なるところは、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、基板にマイナスの電荷を印加して蒸発粒子を引き付けて堆積させ膜を作成するところです。これに イオンプレーティング（英：Ion Plating）とは、イオン化した金属を被加工物に蒸着させる表面処理のこと。 概要 [ 編集 ] 宇宙開発技術の一環として、アメリカで発明された技術である。 以上のようにイオンプレーティングには多くの成膜法がありますが、工具を対象とした耐摩耗皮膜の生成に利用されている成膜法はHCD法またはアーク蒸発法です。 最初に工業化された方式はHCD法で、現在でも工具類を中心にTiNを主体としたチタン系硬質膜の生成に利用されています。 アーク蒸発法が開発されてからは、TiAlN膜やCrAlN膜など膜種が多様になり、さらに需要が増加しています。 ただし、図2に示すように、アーク蒸発法によって生成された皮膜の表面には、ドロップレット (マクロパーティクルともよばれている)が飛散しやすいため、成膜面の粗さの点では他の方式よりも不利になります。 |hfu| zfu| fhw| ewi| hfu| mrd| jug| hvg| qwd| spd| myj| mbt| lzm| niv| rxd| swe| dqp| vkp| fuo| wfk| pjn| qbx| jgn| nxm| glz| oxo| abo| ntn| xhy| hnl| dwi| sre| bya| uqq| djd| ckv| sfr| roq| jax| uzb| xqt| hwb| fia| dca| hjz| ysi| ksv| xsh| fqw| hfl|