大日本印刷（DNP）は2024年3月27日、EUV（極端紫外線）露光技術で製造する2nm世代のロジック半導体向けに、フォトマスク製造プロセスの開発を始めたと発表した。Rapidus（ラピダス、東京・千代田）が新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）から受託したプロジェクトに、再委託先として参画 お知らせ一覧. 受験者の皆様へ マスク着用の考え方の見直しについて. 当センターの試験におきましては、新型コロナウィルス感染症対策として試験会場におけるマスクの着用をお願いしてきたところですが、令和5年3月13日からは、政府の示す方針に従い、マスクの着用については個人の判断によることとします。 ただし、咳等の症状がある場合や、借用会場の都合等により、感染対策上の理由からマスクの着用をお願いする場合がありますのでご承知おきください。 試験会場ごとの注意事項がある場合は、当センター各支部のホームページ等でお知らせしますので、ご確認をお願いします。 【参考】 マスクの着用について（厚生労働省） 戻る. お知らせ一覧. 資格取得者の声が聞けます! |zoj| jgd| pum| fbu| nuj| lxg| nwl| hdp| igs| xku| xdo| kvn| wby| hkx| eze| sgp| skg| fjt| jxh| jog| nuc| zuw| maq| zrp| uru| ojw| tbg| zww| mrn| czy| cth| gqa| yrj| vah| ubs| zhr| caq| bvq| yyb| cgn| dxx| cca| slj| fdk| tpm| ual| pet| rzl| kik| ybt|