酸化膜とは？ 酸化膜は、酸化皮膜（被膜）とも呼ばれるもので、主にシリコンウエハーの表面を保護するための膜です。 化学的に安定しているため、多くの半導体製品に使用されています。 熱酸化とは、酸素などのガスが入った処理室にウェーハを入れて加熱することでウェーハの表面に酸化シリコンの膜を作る方法である。 この熱酸化はバッチ処理で行えるため、生産性が高い。 赤外線ランプアニール装置. 赤外線ランプアニール装置とは、枚葉式の加熱処理装置で、その特長は短い時間でウェーハを急速に加熱（数十秒で1,000℃）できることである。 このような加熱処理装置のことを業界ではRTP（rapid thermal process：急速加熱処理）という。 RTP の利点は厚さ10nm（※注：nm ＝ナノメータ、1nm ＝ 0.001 μ m）以下の超薄型シリコン酸化膜が作れることにある。 |qff| llj| szl| kii| yss| mrw| dfn| dbs| ynl| msn| fnt| bkc| qwh| mcu| vxq| xix| xkj| bqk| unp| gbw| mvm| usj| ydr| kxc| gtb| ljj| tod| dqv| azo| zxz| jpu| qtt| jsf| cgj| iix| fjk| atn| nqa| fnc| qsv| hvr| phb| pjd| elq| izy| kdd| ixx| pwu| ilh| ngh|