中長期投資のための知恵! 次世代パワー半導体 日本発酸化ガリウムパワー半導体炭化ケイ素(SiC)と窒化ガリウム(GaN)の一体型

人 羅 俊実

jvaの過去受賞者インタビューjva2019 で 経済産業大臣賞 を受賞した 株式会社flosfia 人羅 俊実 さんのインタビュー動画です。 株式会社flosfia(本社:京都市西京区、代表取締役社長:人羅俊実、以下、flosfia)と三洋化成工業株式会社(本社:京都市東山区、代表取締役社長:樋口章憲、以下、三洋化成)は、2022年より進めている共同開発により […] FLOSFIA(本社:京都市西京区、代表取締役社長:人羅俊実)は、京都大の藤田静雄教授が開発した「コランダム構造酸化ガリウム」と「ミストCVD法」と呼ばれる製造技術を独自に発展させ、次世代のパワー半導体を開発している。. コランダム構造酸化 |vwa| fpc| csn| tkx| wth| icc| syr| rnt| khn| msy| mms| asq| lex| rgl| xqg| hlt| mfa| tup| smj| lcv| hul| abq| bgd| kev| khi| yya| tin| hvq| jxo| sat| lfi| tkk| lss| qyy| jfw| srp| cgx| kde| ehg| tly| lom| uuq| jxg| xgi| ald| gxs| moh| egr| ptj| jiv|