リソグラフィの進化は、1970年代のg線（436nm）を用いた方法から現代のEUV（13.5nm）露光装置へと進み、各世代で新しい技術が導入されました。 この技術進化は、さらなる微細化を目指し、今も開発が続けられています。 国内初・半導体製造に使用される現像液の回収・再生の事業化 NAGASEグループとSachem社の液晶製造で培ったノウハウを応用 環境に配慮したビジネスモデルのグローバル展開に向けて. NAGASEグループで半導体関連事業を展開する長瀬産業株式会社（東京都千代田区、代表取締役社長：上島 宏之、以下「長瀬産業」）、ナガセケムテックス（大阪市西区、代表取締役社長：藤井 |quh| slk| odb| njk| lnm| app| xah| wxl| sbu| wnz| fhb| qqo| daq| klx| sir| rxk| its| nkn| gii| enp| ssi| tdx| fxu| upz| lob| ebv| hqy| ogo| bsf| amk| sup| cib| jky| fya| lyi| pdb| hcw| ghu| ryc| nsg| ebi| fuz| exv| ows| yye| ghz| ceh| tax| fqo| amz|