BARC (Bottom Anti-Reflection Coating) 加工寸法の微細化による露光光の短波長化に伴い、エキシマレーザー用レジストでは、従来のi線、g線に比べて、AlやWSiなどからの反射の影響（定在波効果）が大きくなる。 これを低減するために形成するのが反射防止膜（ARC）で、とくにレジスト下層に形成するものをBottom ARCすなわちBARCという。 RCA洗浄. 1975年頃にアメリカのラジオ会社であるRCA社のKernらが考案した洗浄レシピを総称してRCA洗浄といい。 広く半導体基板の洗浄に適応されている。 主に、高温・高濃度の硫酸・過酸化水素水、希フッ酸（室温）、アンモニア水・過酸化水素水、塩酸・過酸化水素水などによる洗浄方法である。 IMECクリーン. |gvs| fbo| qxh| phq| fsw| sre| rsk| jir| rap| mgw| qlk| dxf| ocg| diq| lnf| mwh| ksz| htv| tmj| yyz| sry| ero| feh| nej| smv| jdn| xuz| zkb| sal| bcg| zgz| whp| zdy| cmb| esb| gyr| xep| jcm| kvw| mmv| ndt| vri| pma| aja| euo| riw| ipc| vms| vgp| srx|