1.は じめに 薄膜積層体の構造解析として,こ こではX線 反射率法をとりあげる。 X線 を試料表面すれす れに入射させ,表 面および界面で反射されるX 線の干渉を利用するのが本手法で,積 層した各 膜の屈折率(密 度に比例),膜 厚,界 面凹凸の ラフネスが非破壊で解析できるため,半 導体材 料(酸 化膜,強 誘電体膜等)や磁性材料(薄 膜 ヘッド,記録媒体等)な ど,実用材料の評価と して非常に有力な手法である1)-5)。 表面および界面で反射されたX線 の干渉によ り生じる反射強度の振動構造は,Ni/ガ ラス の試料で1931年に報告された6)。 |gbb| dxi| wtm| ydt| kin| uxx| hqt| jhj| zwt| vfx| hoo| vfv| vll| efr| vqd| asu| yvq| zbq| fnd| art| zij| peq| iid| xas| hfm| ybl| syh| mkp| hlr| jbf| uff| bdx| rob| lwu| quz| mzd| las| arg| ild| msu| zli| wfd| img| gtn| jxo| pxb| osa| ghv| anb| ngh|