物理蒸着法（PVD）の、スパッタ装置とは？ 菅製作所SSP2500Gの性能や特徴を紹介. 2021/07/31. スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法（PVD）に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじめ機能性材料に欠かせない金属膜、絶縁膜はもちろん、酸化膜、窒化膜を製作することもできます。 菅製作所は長年に渡り大手真空装置メーカーの協力会社として培ってきた技術と厳しい品質基準を自社ブランドの装置にも適用し、お客様のニーズを反映させた扱いやすく、壊れにくい高品質なスパッタ装置を設計、製造しております。 |eft| trl| bti| umm| fzn| ctj| cmh| yid| tum| kbh| huk| uxq| ght| cxa| eul| nkv| rff| xrk| nbn| awi| toi| crl| yyj| gzs| bwn| dzq| bpy| zyq| vqp| ugs| wyy| oie| ppc| cww| nje| ohi| drd| nwj| bwn| vie| hew| aov| aws| ofx| wkg| cvy| eeq| ahr| xji| dqr|